Sharp vient d’annoncer que sa nouvelle usine de cellules photovoltaïques en couches minces Silicium amorphe de Katsuragi, Nara préfecture, venait de démarrer. Sa capacité de production va atteindre 160 MW, pour un investissement de 200 millions de dollars. Les produits qui vont sortir de cette usine seront destinés aux larges projets solaires européens. De plus Sharp confirme son intention de lancer la réalisation d’une usine de même type en Europe (Italie) avant le printemps 2011. Son objectif global est toujours d’atteindre une capacité de production, toutes technologies confondues, de 1000 MW en 2010 puis d’atteindre 6 GW dans le courant de la décennie suivante.
Avec l’aide du gouvernement japonais qui va reprendre ses aides fiscales au photovoltaïque domestique pour l’exercice 2009, Sharp a bien l’intention de retrouver sa place de N° 1 mondial. C’est pour cela qu’il faut s’attendre à une future lutte fratricide sur les prix, dans une course aux parts de marché mondial, entre les grands industriels japonais, chinois, américains et allemands. La clé du succès sera la maîtrise des technologies comportant de larges réserves de gain de productivité. Il se pourrait que les technologies en couches minces, faisant appel à des procédés de production en continu mieux adaptés aux productions de masse, sortent victorieuses de cette confrontation. La démarche industrielle de Sharp va dans ce sens.
De plus, on vient également d’apprendre que Sanyo Electric, un des bons acteurs du photovoltaïque japonais, était entré en discussions avec Nippon Oil Corp. pour constituer un Joint Venture dans les technologies photovoltaïques en couches minces.
L’industrie japonaise du photovoltaïque se prépare à affronter le rouleau compresseur chinois, la maîtrise de procédés industriels innovants sera la clé de la réussite.
Le 2 Octobre 2008.
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