Sharp, le numéro un mondial des cellules solaires, dispose d’une petite capacité production (15 MW) de cellules photovoltaïques en couches minces dans son usine près de Nara. Il utilise une technologie de nouvelle génération dite « triple-junction structure » version améliorée de la technique dite de « tandem-junction » qui avait démarré dans cette usine dès Septembre 2005. Ces technologies mettent en oeuvre des films très minces de Silicium déposés sur un substrat de verre. Elles permettent de diviser la quantité de Silicium utilisée par cent, par rapport au procédé classique de sciage de lingots de Silicium. La durée du procédé de production est raccoucie et les coûts sont réduits. De plus cette technologie permet de concevoir des panneaux lumineux au design assez innovant.
Le procédé utilise une jonction triple qui permet d’améliorer les rendements de conversion en cellule de 11% par le procédé tandem à 13% avec ce nouveau procédé. Les rendements en modules assemblés atteignent alors 10%.
La nouvelle technologie utilise les moyens de production existants.
Sharp a l’intention de porter sa capacité de production à 160MW pour Octobre 2008.
L’application visée par cette technologie est la construction de panneaux de verre éclairés le jour et illuminés la nuit par des LEDs qui restituent l’énergie emmagasinée dans des batteries durant la journée (Lumiwall).
La réalisation de plafonds ou de murs éclairants autonomes est alors rendue possible.
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